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純水設備制造的水是純度*的水。集成電路工業(yè)中用于半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外,其他固態(tài)電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水。
純水:既將水中的導電介質(zhì)幾乎*去除,又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低程度的水。電阻率大于18MΩ*cm,或接近18.3MΩ*cm極限值。
純水,是一般工藝很難達到的程度,采用預處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級處理四大步驟,多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法,電阻率方可達18.25MΩ*cm
超純水設備是美國科技界為了研制超純材料(半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等)應用蒸餾、去離子化、反滲透技術(shù)或其它適當?shù)某R界精細技術(shù)的制水設備,這種水中除了水分子(H20)外,幾乎沒有什么雜質(zhì),更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物,當然也沒有人體所需的礦物質(zhì)微量元素,一般不可直接飲用,對身體有害,會析出人體中很多離子。
超純水設備,目前的主要工藝流程
1.預處理----復床 ----混床---拋光樹脂
2.預處理----反滲透---混床---拋光樹脂
3.預處理----反滲透----CEDI膜塊----拋光樹脂
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